机译:用透射电子显微镜分析在alGaN / alN应变层超晶格的4英寸si(111)衬底上生长的GaN层中c + a和-c + a位错之间的反应
机译:透射电子显微镜分析AlGaN / AlN应变层超晶格在4英寸Si(111)衬底上生长的GaN层中c + a和-c + a位错之间的反应
机译:用AlGaN / AlN应变层超晶格表征在4英寸Si(111)上生长的GaN层中的位错
机译:使用超薄AlN / GaN超晶格中间层通过MOCVD在4英寸Si(110)衬底上生长的高质量GaN膜和AlGaN / GaN HEMT
机译:AlGaN / GaN紧张层超晶格底层通过MOCVD在Si(111)衬底上生长的基于InGaN的多量子孔
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:应变松弛对在具有溅射AlN成核层的4英寸蓝宝石衬底上生长的InGaN / GaN绿色LED的性能的影响
机译:使用MOVPE在SiC衬底上生长的AlGaN / GaN异质结构中使用原位沉积的SiNx中间层降低位错密度